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氨氮去除劑

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北京某半導體除氟項目

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北京某半導體除氟項目


  • 北京某半導體除氟項目

  • 詳細介紹

安徽某半導體公司除氟項目

項目概況:

在半導體制程清洗、濕法刻蝕等工序中,會使用氫氟酸、氟化銨以及高純水清洗,在干法蝕刻使用其他多種含氟化合物,例如四氟化碳、四氟化硅等等。氫氟酸廢水主要在這兩個領(lǐng)域產(chǎn)生,其中廢水中含氟濃度可以達到1000~3000 mg/L。

水質(zhì)情況:

   原水氟含量  

     8-15 mg/L  

   處理水量

     4000m3/d

   排放標準

     < 1mg/L 

   使用藥劑

     GMS-F4

   處理效果

     出水穩(wěn)定在0.8mg/L以下   


處理難點:

污染物濃度較高,如氟、氨等,廢水一般呈強酸性。

目標要求:

出水穩(wěn)定在0.8mg/L。

環(huán)瑞工藝:

F4深度處理絮凝沉淀工藝

處理優(yōu)勢:

(1)產(chǎn)品硬度較低,不易造成系統(tǒng)管道等組件堵塞;

(2)反應(yīng)速度快,只需15-20 min;

(3)能真正將廢水中氟化物降低至1 mg/L以下。

現(xiàn)場照片:

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